大幅拉升!英伟达、台积电,突传大动作!黄仁勋即将发声

  芯片产业链传出一则新消息!

  今日(10月19日),在美股夜盘交易中 ,英伟达和台积电股价均大幅拉升 。截至记者发稿,英伟达上涨1.73%,台积电上涨1.80%。美指期货亦全线拉升 ,道指期货涨超0.4%,纳指期货涨超1.3%。

  消息面上,据韩国《首尔经济日报》报道 ,三星电子将采用台积电3纳米工艺,生产英伟达下一代定制高带宽存储器(HBM)的核心部件——基础裸片(base die) 。

  此外,令市场关注的是 ,黄仁勋将发表主题演讲。当地时间10月20日至22日 ,英伟达GTC大会将在德国柏林举行,黄仁勋将在21日发表主题演讲。作为英伟达下半年最受关注的技术与生态大会,本届GTC把重心从“卖GPU”进一步推向“卖AI工厂 ” ,据官方介绍,大会设有100多场专题分享,覆盖完整人工智能技术栈 ,将聚焦加速计算 、智能体AI(Agentic AI)、物理AI(Physical AI)、机器人 、开源模型、AI基础设施等方向 。

  此前,三星的HBM产品从作为存储芯片的核心裸片(core die)到承担系统半导体功能的基础裸片均由自家生产。此次针对英伟达NVHBM,三星决定接受英伟达的技术要求 ,放弃原有的一站式(turnkey)制造方案,改为分环节协作。

  据业内人士透露,英伟达已要求负责生产NVHBM的三星电子、SK海力士和美光科技三家供应商 ,均采用台积电3纳米工艺制造基础裸片;同时要求核心裸片统一采用第六代DRAM工艺(代号1c) 。NVHBM是英伟达于8月发布的定制HBM,基于第七代,即下一代HBM架构HBM4E 。英伟达提出上述要求 ,是因为各HBM供应商制造方式不同 ,同一设计难以保证性能一致;统一标准也可减轻对各家产品逐一验证的负担。

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  四年前,三星电子曾与台积电合作 ,确保HBM与图形处理器(GPU)连接时兼容台积电的封装工艺;但这是双方首次在HBM制造阶段展开合作。

  据报道,对于标准HBM产品,三星电子将维持一站式策略 。其第六代HBM4已于今年早些时候在全球率先量产 ,第七代HBM4E正进行量产验证;这两款产品的基础裸片均采用三星自家4纳米晶圆代工工艺,核心裸片则在三星华城和平泽园区的1c产线上生产。

  对于供应AMD等其他客户的定制HBM,三星计划继续采用一站式方案。同时 ,三星也未排除由自家晶圆代工厂开发和量产NVHBM的可能性 。一位业内人士表示:“三星正在评估能否在自有晶圆代工厂生产NVHBM基础裸片。这是为应对NVHBM需求可能超出台积电产能而做的对冲准备。”

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(文章来源:券商中国)

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